US-Technologieaktien-Divergenz erreicht historische Niveaus, nähert sich Dot-Com-Höchststand
Die Leistungslücke zwischen dem obersten und untersten Quintil der US-Technologieaktien hat in drei Monaten etwa 120 Prozentpunkte erreicht, der zweithöchste Wert seit Beginn der Aufzeichnungen und nähert sich dem Dot-Com-Höchststand von 2000 mit etwa 135 Punkten. Die Spanne hat sich im letzten Jahr vervierfacht.
Die Streuung innerhalb der US-Technologieaktien hat sich auf ein Niveau ausgeweitet, das seit der Dot-Com-Ära nicht mehr gesehen wurde. Laut Daten, die von The Kobeissi Letter zitiert werden, haben die oberen 20% der US-Technologieaktien die unteren 20% in den letzten drei Monaten um etwa 120 Prozentpunkte übertroffen. Das ist der zweithöchste Wert in der Geschichte, knapp unter dem ~135-Punkte-Höchststand, der während der Dot-Com-Blase im Jahr 2000 verzeichnet wurde.
Die Lücke hat sich im letzten Jahr mehr als vervierfacht und beschleunigt sich schneller als der Anstieg von 1999–2000. Die Technologieaktien des obersten Quintils haben in den letzten drei Monaten eine Rendite von +110% erzielt und damit fast die extremen Niveaus vom Februar 2000 erreicht. Die Aktien des untersten Quintils verzeichneten dagegen eine negative Rendite von -10%, was die Enge der aktuellen Rally unterstreicht.
Die Konzentration der Gewinne deutet darauf hin, dass die Technologierally fast ausschließlich von einer kleinen Untergruppe von Titeln angetrieben wird, während der Großteil des Sektors deutlich zurückbleibt.
Source: The Kobeissi Letter